講解光催化氧化設備的技術工藝
光催化氧化設備的工藝技術非常的發達，想要了解設備，那么我們就應該多了解它的技術工藝以及相應技術，這樣我們在后續應用中更靈活方便，在設備改造的方面也會很有幫助。下面講解光催化氧化設備的技術工藝。
1、納米二氧化鈦光催化應用技術工藝簡單、成本低廉，利用自然光即可分解細菌和污染物。
2、光催化氧化設備由于顆粒的細微化，納米材料還具有塊狀材料所不具備的表面效應、量子尺寸效應、小尺寸效應和宏觀量子隧道效應。
3、光催化氧化設備具有高催化活性、良好的化學穩定性和熱穩定性、沒有二次污染、無刺 激性、無毒特點，能長期有益于生態自然環境，是具有開發前景的綠色環保催化技術之一。
二、熱力學理論表明
1、光催化氧化設備分布在二氧化鈦表面的空穴可以將氫氧根和水分子氧化成氫氧根離子，而電子具有很強的還原性，可使得固體表面的電子受體如氧氣被還原成臭氧根離子。
2、光催化氧化設備可以抵制光催化劑上電子和空穴的復合，提高反應效率，同時也是氧化劑，可以氧化已經烴化的反應產物，是表面烴基自由基的另一個來源。
三、理論上
1、只要半導體吸收的光能大于等于其隙能，就能被激發產生光生電子和光生空穴，該半導體就可以作為光催化及。
2、一個具有實際應用價值的半導體催化劑要具有化學穩定性，光照穩定性和選擇性及較寬的光譜響應，同時還要考慮工藝的材料成本等因素。
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